窄带滤光片的薄膜一般由低折射率和高折射率的两种膜组成叠加后层数达几十层每一层薄膜的参数漂移都可能影响终性能；窄带滤光片透过率对薄膜的损耗非常敏感，所以生产峰值透过率很高、半带宽又很窄的滤光片对滤光片生产工艺的要求比较高。光学薄膜生产的方法有很多种，比如化学气相沉积、热氧化法、阳极氧化法、溶胶凝胶法、原子层沉积（ALD）、原子层外延（ALE）、磁控溅射等，而不同方法生产出来的薄膜性能差异很大。

　　窄带滤光片在真空镀膜设备的蒸发沉积过程中，真空室通过加热或电子束轰击进行蒸发。在镀膜膜料蒸发过程中，蒸汽冷凝到窄带滤光片待镀膜表面用特定的光学工艺保持膜层均匀。和其他技术相比，真空蒸发沉积可以容纳更大的镀膜尺寸，使用离子束辅助沉积（IAD工艺）可以增强镀膜工艺强度，离子束轰击于基片表面，可以让窄带滤光片的膜层缜密性更好膜层牢固度更好可以满足更多的使用需求。

　　产品特点：

　　1、单片式不采用胶合

　　2、镀硬膜，使用寿命长

　　3、波长定位

　　4、离子蒸镀,温度漂移小

　　5、透过率高

　　6、截止深度高